RD-603高效硬鉻

603硬鉻添加劑

一．產品特點

陰極電流效率較高，電流密度范圍寬，沉積速快?？稍谳^高電流密度下操作。

對陰極無腐蝕，鍍硬度高。

鍍層光亮，平滑細致，厚度均勻層，深鍍性佳。

鍍液穩定，易操作，維護方便。單一開缸及補充，使用極為方便。

二．溶液組成及操作條件

三．設備要求

1．鍍槽：采用PVC（聚氯乙?。┧苣z材料的槽子。

2．抽風裝置：必需備有抽風裝置，以防有鉻霧逸出。

3．整流機：可提供6-15伏電壓，而波紋率少于5%。

4．陽極：鉛錫合金（含鉛93%、錫7%）陽極。陽極應有足面積以負荷電流，避免過熱。如長時間不產生時，需把陽極取出，并擦洗干凈。

5．溫度控制：需裝備有溫控器，加熱采用石英或鐵氟龍加熱管。

四．開缸方法

1．注入開缸量之60-70%的去離子水，加熱至45℃。

2．在強力攪拌下慢慢加入鉻酐，攪拌使其充分溶解，加水標準液位。

3．分析硫酸至標準含量，控制在范圍內 。

4．加入計量的RD-603硬鉻添加劑。

5．掛好陽極，添加好鉻防霧劑后，以大面積陰極用6V電壓于操作溫度下電解3-12小時，將溫度控制至工藝范圍，即可試鍍。

五．生產維護

RD-603硬鉻添加劑在鍍鉻中起到提高鍍液分散能力作用，每使用100Kg鉻酐需添加RD-603硬鉻添加劑約4.5-8升。

六．各組成份功能

鉻酐

鉻酐為主要成份，含量高則導電率會高，但陰極電流下降，不足則高電流區易燒焦。

三價鉻

新配的鍍液經過電解后有三價鉻產生，進行電解時陰極上產生三價鉻，而陽極則將其氧化成六價鉻，以達至平衡，三價鉻含量一般為0.5-3g/L。

三價鉻過低時，沉積速度慢，鍍層較軟，鍍液均鍍能力差，可通過大陰極面積電解以提高其含量，三價鉻過高則鍍層光亮范圍縮小，導電率下降，可用小陰極面積電解以降低其含量。

硫酸

鍍鉻液中要有適量的硫酸才能可使六價鉻還原成金屬鉻。

過高比列則會減少鍍層沉積速度和光澤度，鍍層邊會出現黑色條紋及棕色鉻渣。

過低比例雖可提高鍍層光澤度，但卻使陰極電流效率，沉積速度和深鍍能力降低，且易起鉻漬。

硫酸過高可加碳酸鋇沉淀以除去，一般為2g碳酸鋇可沉淀1g硫酸。

603硬鉻添加劑

含量過低，走位偏差。含量嚴重過量，鍍層易起漬。平常補加鉻酐時按比例進行補充，一般不需要額外補加。