RD-630掛鍍光亮鍍鎳

630掛鍍光亮鍍鎳工藝

一、產品特點

1．工藝具有低電位覆蓋能力平均、易套鉻、低區鍍層光亮等特點。能在寬廣的電流密度范圍內可獲得填平度均勻的鍍層。

2．操作簡單，分解產物少，適用于單層光亮鎳或防腐性能要求的多層鎳工藝。

二、鍍液組成及操作條件

三、鍍液配制

1．注入三份之二的水于代用缸或（預備槽）中，加熱至65℃。

2．加入所需的硫酸鎳及氯化鎳，攪拌使其溶解。

3．加入2-5毫升/升雙氧水（30%），攪拌打氣兩小時，加入前先以水稀釋。

4．加入碳酸鎳或4%的氫氧化鈉溶液（40克/升），調整PH至5.2。

5．加入活性碳3-8克/升，攪拌數小時，然后靜止至整晚。 

6．用過濾泵，把鍍液濾入清潔之電鍍槽內。

7．將過濾泵清洗干凈，然后再填裝活性碳粒（0.2克/升）及助濾粉(0.2克/升)。

8．加入所需之硼酸及用稀硫酸調整酸堿度至4.0。

9．用波浪狀的假陰極（Dummy Cathode）以低電流密度（0.1-0.4安培/平方分米）連續電解12小時以上,或直至低位顏色由暗黑變淺灰色。加入計量好的鎳添加劑后,便可以開始試鍍。

四、設備要求

1．鍍槽（缸）：PVC或內襯合適的塑料材料的柔鋼缸。

2．溫度控制：需裝備溫控裝置?？捎谜魵?、石英電熱筆加熱或其他認可材料的加熱筆。

3．空氣攪拌：鍍液需要平均而強烈的空氣攪拌，所需的空氣由低壓無油泵供應。

4．循環過濾：鍍液需要連續循環過濾。過濾泵能在1小時內能將鍍液過濾5至9次，過濾泵應每40工作小時，放入活性碳0.6克/升，或每8個工作小時混入0.2克/升的活性碳于助濾粉中效果更佳。

五、組成原料的功用

硫酸鎳（NiSO4·6H2O）

硫酸鎳為鎳離子的主要來源，沉積在鍍件上的金屬鎳就是由鎳離子還原的。

氯化鎳（NiCl2·6H2O）

氯化鎳是提供氯離子來幫助陽極的溶解，減少陽極極化現象，增加鍍液的導電性，并使陰極有較高之電流密度，同時也供應鎳離子。

硼酸（H3BO3）

硼酸有緩沖作用，可穩定陰極附近的鍍液的PH值。硼酸過低，鍍層會有針孔，容易變脆。硼酸過高，陰極袋會因硼酸結晶而阻塞，間接增大電阻。

六、添加劑的作用及消耗量

630主光劑

輔助光亮度及填平度，可使鍍層的厚度及光亮度更為均勻。少量過量的主光劑可用電解除去。消耗量為50-100ml每千安培小時。

630走位劑

減少鍍層內應力，增加柔軟性，及使低電流密度區覆蓋良好。在活性碳過濾下只能除去微量，電解消耗量也很少，消耗量為100-200ml每千安培小時。

630濕潤劑

可維持鍍液表面張力在40-45達因/厘米，故能防止鍍層產生針孔。均適用于空氣攪拌；它們能被雙氧水和高錳酸鉀摧毀，亦為活性碳所吸收，消耗量為50-80ml每千安培小時。

七、產品目錄

630主光劑　　630走位劑　　630濕潤劑